中新网沈阳10月21日电 (记者 沈殿成)国家02重大科技专项《90-65纳米等离子体增强化学气相沉积设备的研制与应用》项目12英寸PECVD设备，将于近日在辽宁省沈阳市出厂。该设备出厂前已经完成3000片工艺测试和10000片可靠性测试，各项指标已经达到设计要求。这是中国自主开发研制的首台12英寸PECVD设备，是关键IC装备国产化的重大突破。
国家中长期战略发展规划，将集成电路制造产业的重点发展项目列为国家十六个重点支持的专项之一，位列第二，统称为02专项，并计划通过3个五年计划，使中国在集成电路制造领域赶上和超过世界先进水平。
《90-65nm等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备的研发与产业化》项目是2008年9月首批启动的国家十一五重大专项中最大单体项目之一，是迄今为止辽宁省落实的最大的02专项国家级科研项目，项目总投资3.5亿。
12英寸PECVD设备是当今国际主流薄膜沉积设备，是芯片制造过程中4种最基本、最重要的设备之一(光刻、薄膜沉积、刻蚀、离子注入等设备)。它是高质量薄膜材料生长必备设备，全球每年有大约100亿的市场，目前被美国应用材料、美国诺发公司、ASM公司垄断。
此次出厂的设备在完成客户在线测试后即可实现销售，未来3至5年内有望占有10%的国际市场，实现销售10亿元人民币。
据悉，生产该设备的沈阳拓荆科技有限公司是特别为实施国家02重大科技专项而成立的公司，由中科院沈阳科仪公司同海外专家团队注册成立。(完)
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